光刻胶@@是一种有机化合物@@，它受紫外光曝光后@@，在显影液中的@@溶解度会发生变化@@。一般光刻胶@@以液态涂覆在硅片表面上@@，曝光后烘烤成固态@@。 1、光刻胶@@的@@作用@@： a、将掩膜板上的@@图形转移到@@硅片表面的@@氧化层中@@； b、在后续工序中@@，保护下面的@@材料@@（刻蚀@@或离子注入@@）。2、光刻胶@@的@@物理特性@@参数@@： a、分辨率@@（resolution）。区别硅片表面相邻图形特征的@@能力@@。一般用关键尺寸@@（CD，Critical Dimension）来衡量分辨率@@@@。形成的@@关键尺寸越小@@，光刻胶@@的@@分辨率@@@@越好@@@@。 b、对比度@@（Contrast）。指光刻胶@@从曝光区到@@非曝光区过渡的@@陡度@@。对比度@@越好@@，形成图形的@@侧壁越陡峭@@，分辨率@@越好@@。 c、敏感度@@（Sensitivity）。光刻胶@@上产生一个良好的@@图形所需一定波长光的@@最小能量@@值@@（或最小曝光量@@）。单位@@：毫焦@@/平方厘米或@@mJ/cm2。光刻胶@@的@@敏感性对于波长更短的@@深紫外光@@（DUV）、极深紫外光@@（EUV）等尤为重要@@。 d、粘滞性@@/黏度@@（Viscosity）。衡量光刻胶@@流动特性@@的@@参数@@。粘滞性@@随着光刻胶@@中的@@溶剂@@的@@减少而增加@@；高的@@粘滞性@@会产生厚的@@光刻胶@@@@；越小的@@粘滞性@@@@，就有越均匀的@@光刻胶@@厚度@@。光刻胶@@的@@比重@@@@（SG，Specific Gravity）是衡量光刻胶@@的@@密度的@@指标@@@@。它与光刻胶@@中的@@固体含量有关@@。较大的@@比重@@意味着光刻胶@@中含有更多的@@固体@@，粘滞性@@更高@@、流动性更差@@。粘度的@@单位@@@@：泊@@（poise），光刻胶@@一般用厘泊@@@@（cps，厘泊@@为@@1%泊@@）来度量@@。百分泊@@即厘泊@@为@@绝对粘滞率@@@@；运动粘滞率@@定义为@@：运动粘滞率@@=绝对粘滞率@@/比重@@。单位@@：百分斯托克斯@@（cs）＝cps/SG。 e、粘附性@@（Adherence）。表征光刻胶@@粘着于衬底的@@强度@@。光刻胶@@的@@粘附性@@不足会导致硅片表面的@@图形变形@@。光刻胶@@的@@粘附性@@必须经受住后续工艺@@@@（刻蚀@@、离子注入等@@）。 f、抗蚀性@@（Anti-etching）。光刻胶@@必须保持它的@@粘附性@@@@，在后续的@@刻蚀@@工序中保护衬底表面@@。耐热稳定性@@、抗刻蚀@@能力和@@抗离子轰击能力@@。 g、表面张力@@（Surface Tension）。液体中将表面分子拉向液体主体内的@@分子间吸引力@@。光刻胶@@应该具有比较小的@@表面张力@@@@，使光刻胶@@具有良好的@@流动性和@@覆盖@@。 h、存储和@@传送@@（Storage and Transmission）。能量@@（光和@@热@@）可以激活光刻胶@@@@。应该存储在密闭@@、低温@@、不透光的@@盒中@@。同时@@必须规定光刻胶@@的@@闲置期限和@@存贮温度环境@@。一旦超过存储时@@间或较高的@@温度范围@@，负胶会发生交联@@，正胶会发生感光延迟@@。3、光刻胶@@的@@分类@@ a、根据光刻胶@@按照如何响应紫外光的@@特性@@可以分为两类@@：负性光刻胶@@@@和@@正性光刻胶@@@@@@。 负性光刻胶@@@@（Negative Photo Resist）。最早使用@@，一直到@@@@20世纪@@70年代@@。曝光区域发生交联@@，难溶于显影液@@。特性@@：良好的@@粘附能力@@、良好的@@阻挡作用@@、感光速度快@@；显影时@@发生变形和@@膨胀@@。所以只能用于@@2μm的@@分辨率@@@@。 正性光刻胶@@@@（Positive Photo Resist）。20世纪@@70年代@@，有负性转用正性@@。正性光刻胶@@@@的@@曝光区域更加容易溶解于显影液@@。特性@@：分辨率@@高@@、台阶覆盖好@@、对比度@@好@@；粘附性@@差@@、抗刻蚀@@能力差@@、高成本@@。 b、根据光刻胶@@能形成图形的@@最小光刻尺寸来分@@：传统光刻胶@@@@和@@化学放大光刻胶@@@@@@。 传统光刻胶@@@@。适用于@@I线@@（365nm）、H线@@（405nm）和@@G线@@（436nm），关键尺寸在@@0.35μm及其以上@@。 化学放大光刻胶@@@@（CAR，Chemical Amplified Resist）。适用于@@深紫外线@@@@（DUV）波长的@@光刻胶@@@@。KrF（248nm）和@@ArF（193nm）。4、光刻胶@@的@@具体性质@@ a、传统光刻胶@@@@：正胶和@@负胶@@。光刻胶@@的@@组成@@：树脂@@（resin/polymer），光刻胶@@中不同材料的@@粘合剂@@，给与光刻胶@@的@@机械与化学性质@@（如粘附性@@@@、胶膜厚度@@、热稳定性等@@）；感光剂@@，感光剂@@对光能发生光化学反应@@；溶剂@@（Solvent），保持光刻胶@@的@@液体状态@@，使之具有良好的@@流动性@@；添加剂@@（Additive），用以改变光刻胶@@的@@某些特性@@@@，如改善光刻胶@@发生反射而添加染色剂等@@。 负性光刻胶@@@@。树脂@@是聚异戊二烯@@，一种天然的@@橡胶@@；溶剂@@是二甲苯@@；感光剂@@是一种经过曝光后释放出氮气的@@光敏剂@@，产生的@@自由基在橡胶分子间形成交联@@。从而变得不溶于显影液@@。负性光刻胶@@@@在曝光区由溶剂@@引起泡涨@@；曝光时@@光刻胶@@容易与氮气反应而抑制交联@@。 正性光刻胶@@@@。树脂@@是一种叫做线@@性酚醛树脂@@的@@酚醛甲醛@@，提供光刻胶@@的@@粘附性@@@@、化学抗蚀性@@@@，当没有溶解抑制剂存在时@@@@，线@@性酚醛树脂@@会溶解在显影液中@@；感光剂@@是光敏化合物@@（PAC，Photo Active Compound），最常@@见的@@是重氮萘醌@@（DNQ），在曝光前@@，DNQ是一种强烈的@@溶解抑制剂@@，降低树脂@@的@@溶解速度@@。在紫外曝光后@@，DNQ在光刻胶@@中化学分解@@，成为溶解度增强剂@@，大幅提高显影液中的@@溶解度因子至@@100或者更高@@。这种曝光反应会在@@DNQ中产生羧酸@@，它在显影液中溶解度很高@@。正性光刻胶@@@@具有很好的@@对比度@@@@，所以生成的@@图形具有良好的@@分辨率@@@@@@。 b、化学放大光刻胶@@@@（CAR，Chemical Amplified Resist）。树脂@@是具有化学基团保护@@（t-BOC）的@@聚乙烯@@（PHS）。有保护团的@@树脂@@不溶于水@@；感光剂@@是光酸产生剂@@（PAG，Photo Acid Generator），光刻胶@@曝光后@@，在曝光区的@@@@PAG发生光化学反应会产生一种酸@@。该酸在曝光后热烘@@（PEB，Post Exposure Baking）时@@，作为化学催化剂将树脂@@上的@@保护基团移走@@，从而使曝光区域的@@光刻胶@@由原来不溶于水转变为高度溶于以水为主要成分的@@显影液@@。常@@